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本公開的實施方式大體而言涉及擴增實境波導組合件。、虛擬現實通常被認為是計算機產生的仿真環境，其中用戶具有表觀物理存在。虛擬現實體驗可以以d形式產生，并使用頭戴式顯示器(head-mounted?display,hmd)，例如眼鏡或其他可穿戴顯示設備觀看，此等其他可穿戴顯示設備具有近眼顯示面...

本發明涉及可用于例如通過光刻技術制造設備的方法和裝置，并且涉及使用光刻技術制造設備的方法。本發明更具體地涉及計量傳感器和具有這種計量傳感器的光刻裝置，并且更具體地還涉及這種計量傳感器的照射布置。、光刻裝置是一種將期望圖案施加到襯底上(通常是襯底的目標部分)的機器。光刻裝置可以被用于例如集成...

本發明涉及測量的，尤其涉及一種基于自動校準的分層格柵準直系統。、光學準直校準包含用于光束對準和方向調整的各類光學系統與方法，主要應用于精密測量、光學檢測、光通信以及激光加工等領域。該的核心內容包括光學元件的排列、光束的路徑優化、對準誤差的檢測與修正以及自動校準機制的應用。其...

本發明涉及光學設備，具體而言，涉及一種成像機構及光學成像系統。、連續變倍是利用光學系統中的鏡組移動機構控制光學透鏡組的移動來改變系統的組合焦距，同時保持像面位置基本不變。凸輪機構是其中一種可以實現光學系統組合焦距連續變化的鏡組移動機構，凸輪機構通過變倍曲線槽，可以連續改變鏡組的位置，達到變...

本申請屬于顯示，尤其涉及一種透鏡基板、透鏡及顯示裝置。、直寫打印技術已經廣泛應用于d?lens生產工藝中。直寫打印技術是通過氣壓驅動控制打印針頭出膠量。與壓控方式相比，氣壓驅動方式存在一定的信號延遲。實際工藝中，由于信號延遲，打印針頭在接收到壓控停止信號后，仍會有一段時間的出膠。相應的在裸...

本發明涉及半導體掩膜板材料領域，尤其涉及一種高分子化合物包覆的光掩膜。、在半導體制造領域，光掩膜作為光刻工藝的關鍵元件，其成品結構由光掩膜本身以及緊密貼附其上的保護框膜共同構成。在當前高端光掩膜板的生產制造環節，必須極力避免硫酸根及銨根的殘留情況出現。這是因為，在后端掩膜板投入使用的過程中...

本發明屬于智能調光材料，具體涉及基于高比表面積多孔碳摻雜界面改造的雙穩態pdlc調光膜及其制備方法和應用。、液晶調光技術憑借其動態調控透光特性的優勢，在智能窗、顯示設備等領域備受關注。傳統聚合物分散液晶(pdlc)調光膜通過外加電場改變液晶分子取向實現透光率調節，但需持續施加電壓以維持透明...

本申請涉及顯示，尤其涉及一種量子點透鏡組及其制備方法、背光模組、顯示裝置。、隨著led(light?emitting?diode，發光二極管)照明技術的普及，傳統led燈具在提供高效照明的同時，也暴露出藍光過多的問題。而量子點技術作為一種新興的發光材料，展現出獨特的優勢。量子點是納米級半導...

本公開涉及顯示，尤其涉及一種顯示模組及其制備方法、顯示裝置。、隨著顯示領域的飛速發展，各種顯示產品層出不窮，其中液晶顯示面板憑借其功耗較低、制造成本較低等特點被廣泛應用。在一些使用場景中，希望顯示產品的邊框窄，且顯示效果佳。因此，如何縮小顯示產品邊框寬度成為現階段接待解決的技術問題之一。技...

本發明涉及d顯示，尤其涉及一種光場d顯示器和一種光場d顯示方法。、光場d顯示是一種通過重構自由空間中物體的發光分布來呈現d影像的顯示技術，能夠重構高維光線數據，滿足人眼的立體視覺特性，正確呈現不同物體間的相互遮擋關系，實現自然舒適的立體感知效果。分辨率、視角和深度是光場d顯示器的三個重要性...

本發明涉及分束器件領域，特別是涉及一種超構表面分束器。、分束器，作為光學領域中的一項基礎且至關重要的功能元件，其應用范圍極為廣泛，涵蓋了諸如干涉儀、光通信系統以及精密光學檢測等多個光學系統領域。隨著現代光學技術的不斷進步，光學系統正日益向著多支路設計和小型化的方向快速發展。因此，分束器——...

本發明涉及放射科影像診斷，具體而言，涉及一種放射科影像診斷閱片設備。、放射科影像是指通過各種放射學技術獲取的人體內部結構的圖像，其主要通過x線影像、ct影像、mri影像實現，這三種技術都是基于外部能量與人體組織相互作用，利用組織對能量的不同反應來生成影像。、醫護人員在對這些影像片進行觀閱時...

本發明涉及屏幕，特別是涉及一種可控光顯示的屏幕總成及其應用方法。、在展廳設計中，沉浸式體驗的營造往往需要適度控制自然光線的進入，以保持展廳的神秘感和氛圍。然而，現有的技術在控制自然光方面存在一些局限性。首先，過多的自然光可能會破壞展廳的沉浸感，使展廳布局一覽無余，缺乏探索的神秘感。為了增強...

本發明涉及相變材料以及中紅外光學器件，具體涉及一種基于鈧銻碲的可重構紅外光吸收器件。、電磁波的控制在科學研究和工業應用中具有重要的意義，近年來，由具有工程光學特性的光散射納米結構組成的光學超表面解決了傳統光學器件在調控電磁波時遇到的具有挑戰性的問題。除了納米結構單元的參數，選擇合適的材料在...

本發明涉及硅基光子存儲，具體涉及一種相變多態存儲與計算的全光波導器件與陣列。、基于硅基的光子器件應用領域廣泛，特別是在下一代計算架構中，硅光子技術可以顯著提高處理器、內存和存儲單元之間的數據傳輸速率，解決傳統電子架構中的帶寬瓶頸問題。全光神經網絡利用光的特性執行神經網絡中關鍵的矩陣運算，能...

本發明涉及激光微納制造以及微納光學，具體涉及一種微透鏡陣列及其制備方法和制備系統。、微鏡陣列由緊密排列的周期性微反射鏡組成，已經應用在光學、通訊、天文、生物等眾多領域。目前，大多采用機加工的方式生產微反射鏡結構，生產效率低且成本高，部分采用光刻、刻蝕的技術，這種方式在生產大幅面的微反射鏡陣...

本發明屬于光纖夾具，具體為一種cpo光引擎組裝用光纖夾具工裝及其使用方法。、隨著數據中心對高速、大容量數據傳輸需求的爆發式增長，共封裝光學(cpo)技術作為一種將硅光電組件與電子晶片封裝相結合的技術，正逐漸成為行業焦點，cpo技術將光引擎與計算芯片封裝在一起，極大地縮短了光傳輸距離，降低了...

本發明涉及光刻曝光，尤其涉及一種卷對卷高精度投影式曝光機的精度優化方法及系統。、隨著電子產業的快速發展，尤其是對于柔性電子器件和高密度互連電路板的需求日益增加，卷對卷(rr)高精度投影式曝光機的應用變得尤為關鍵。這類設備主要用于制造過程中將微細圖案精確轉移到柔性基材上，如聚酰亞胺等材料，其...

本發明屬于電子設備，具體涉及一種鏡頭光圈調節裝置。、對于相機光圈而言，在光線強烈的地方，相機通過縮小光圈，可以獲得更深的景深和更銳利的畫面，而在光線不足的地方，通過增大光圈可以增加進光量，也就可以獲得曝光更高、噪點更低的純凈畫面。在電子設備領域中，一般電子設備的攝像頭是無法改變光圈大小的，...

本發明屬于電力設備局部放電檢測領域，具體涉及到一種放電光信號耦合裝置及其結構設計方法。、gis設備的電壓等級較高，并且對氣室內部金屬尖端、毛刺等缺陷十分敏感，因此綜合考慮強電場對二次設備工作穩定性的影響以及二次設備對gis內部電場分布的影響，光電傳感器件無法直接安裝于gis氣室內部，為了實...